了解（jiě）一下什麽是（shì）真空鍍膜（mó）機

       真空鍍膜機主要指（zhǐ）一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具（jù）體包括很（hěn）多種類，包括真（zhēn）空電阻加熱（rè）蒸發，電子槍加熱蒸發，磁控濺射，MBE分（fèn）子束（shù）外延（yán），PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很（hěn）多種。主（zhǔ）要思路（lù）是分成蒸發和濺射兩（liǎng）種（zhǒng）。
       真空鍍膜機（jī）需（xū）要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中（zhōng）。
       蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離子形式被蒸發出來。並（bìng）且沉降在基片表麵，通過（guò）成（chéng）膜過程（散點－島狀結構-迷走結（jié）構-層狀生（shēng）長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子（zǐ）形式被濺射出來，並且沉積在基片表（biǎo）麵，經曆成膜過程，形成薄膜。