講（jiǎng）講真（zhēn）空鍍（dù）膜機化學（xué）上（shàng）的薄膜均（jun1）勻性概念

       1、厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的（de）尺度上看（也（yě）就是1/10波（bō）長作為單位（wèi），約（yuē）為100A），真空鍍膜機的真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光（guāng）波長（zhǎng）的1/10範圍內（nèi），也就是（shì）說（shuō）對於薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子（zǐ）層尺度上的均勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表麵平（píng）整，具體控製因素下麵會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
       2、化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化（huà）合物的原子組分會（huì）由於尺度過小（xiǎo）而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄（báo）膜，如果真空鍍膜機鍍膜過程不科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並不是想要的膜的化（huà）學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下麵給（gěi）出。
       3、晶格有序度的均勻性： 這決定（dìng）了（le）薄膜是單晶，多晶，非晶，是（shì）真（zhēn）空鍍膜技術中的熱點問題。