真（zhēn）空鍍膜設備的沉積方（fāng）式主要涵蓋以下幾種：

       1、真空蒸鍍：這是PVD法中（zhōng）使用很早的（de）技術（shù）。在真（zhēn）空條件下，使金屬、金屬合金等（děng）蒸發（fā），然後沉積在基體表麵上。蒸發的方法常用（yòng）電阻加熱、電子束轟擊鍍料（liào），使蒸發成氣相，然後沉積在基（jī）體表麵（miàn）。

       2、濺射鍍膜：在（zài）充氬(Ar)氣的真空條件下，使氬（yà）氣進（jìn）行輝光放（fàng）電，氬(Ar)原子電離成氬離子(Ar+)，氬離子在（zài）電場力的（de）作用下，加速轟擊以鍍料製作的陰（yīn）極（jí）靶材，靶材會被（bèi）濺射出來（lái）而（ér）沉（chén）積到工件表麵。

       3、離子鍍：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術，使（shǐ）鍍料原子部分電（diàn）離成離子，同時產生許多高能量（liàng）的（de）中性原子，在被鍍基體上加負偏壓，這樣離子（zǐ）沉積於基體表（biǎo）麵形（xíng）成薄（báo）膜。

       4、真空卷繞鍍膜：一種利用物理的氣相沉積方法在柔性基體上連續鍍膜的技（jì）術，以實現柔（róu）性基（jī）體的一些功（gōng）能性、裝飾性屬性。

       5、束（shù）流沉積鍍：結合了離子注入與氣相沉積鍍（dù）膜技術的離子表麵複合處理技術（shù），利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度（dù）下，形成具有（yǒu）良好特（tè）性（xìng）薄（báo）膜的技（jì）術。

       此外，根據蒸發方（fāng）式的不同（tóng），真（zhēn）空蒸鍍還可以分為電阻蒸發、電子束蒸發和感應加熱蒸發等多種方（fāng）式。這（zhè）些沉積方式各有其特（tè）點（diǎn）和適用場景，可以（yǐ）根據具體的鍍（dù）膜需求和條件進行選擇。
       轉載請注明出處：http://www.uohbbs.com