真空鍍膜機是用於在真空（kōng）條件（jiàn）下進行薄膜沉積的設備，其結構形式（shì）多種多樣，以適（shì）應不同的作業場景和基片類型。以下是真空鍍膜機的幾種常（cháng）見結構形式：

       立式真空鍍膜機是一種常見的結構形（xíng）式，它由（yóu）鍍膜室、真（zhēn）空（kōng）泵係統（tǒng）、控製（zhì）係統等部分組成。鍍膜室通常為圓（yuán）柱形或方形，內部（bù）裝有加熱裝置和（hé）冷卻係統，以控（kòng）製鍍膜過程中的溫度。它適（shì）用於在平麵基片上進行薄膜沉積，如（rú）光學鏡片、半（bàn）導體晶圓等。

       臥式真空（kōng）鍍膜機是另一種常見的結構形式，它與立式真空鍍（dù）膜（mó）機（jī）的主（zhǔ）要區別在於鍍膜室的形狀和布局。它的鍍膜室通常為長方體形狀，內部（bù）裝有多個蒸發源和靶材，可（kě）以實現多層（céng）層疊鍍膜。它（tā）適用於在大麵（miàn）積基片上進行（háng）薄膜沉積，如太陽能電池板、平板顯（xiǎn）示器等（děng）。

       連續式真空鍍膜機是一種自動化（huà）程度較高的真空鍍膜設備，它可以在連續生產線上進行薄膜沉積。它通常由多個鍍膜室、輸送係統、控製係統等（děng）部分組成，可以實現高（gāo）效、穩定的薄膜沉積。它適用於大規（guī）模生產中的薄膜沉積，如塑料薄膜、金屬（shǔ）箔等（děng）。

       除了以上幾種常見的結構形式外，還有一些特殊結構的（de）真空鍍膜機，如旋轉式、折疊式等。這些真空鍍膜機具有特定的（de）結構和功能，適用於特定的作（zuò）業場景和基片類型。