材料經過真（zhēn）空鍍膜機鍍膜（mó）之（zhī）前，都是（shì）要進行清（qīng）洗的，也就是大家目前常說的真空清洗工藝，真空鍍膜（mó）機真空清洗一般定義為在真空工藝進行前（qián），先從工件或係（xì）統材料表麵清除所不期望的物質的（de）過程。真空（kōng）零（líng）部件的表麵清洗處理是很必要的，因為由汙染物所造（zào）成（chéng）的氣體、蒸氣源會使真空係統不（bú）能獲得所要求的真空度。此外，由於汙染物的存在，還會影響真空部件連接（jiē）處的強度和（hé）密封性能。
       一、真空加熱清洗
       將（jiāng）工件放置於（yú）常壓或真空中加（jiā）熱。促（cù）使（shǐ）其表麵上（shàng）的揮發雜質（zhì）蒸發來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環境壓力、在真（zhēn）空中保留時間的長短、加熱溫（wēn）度、汙染物（wù）的類型及（jí）工件材料有關。其原理是加（jiā）熱工（gōng）件。促使其表麵吸附的水分子和（hé）各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的（de）程度與溫度有關。在超高真空下，為了得到原子級清潔表麵，加熱（rè）溫度必高於450度才行。加（jiā）熱清洗方法特別有效。但有時，這（zhè）種處理方法也會產生副作用。由於加（jiā）熱的結果，可能（néng）發生某些碳氫化合物聚（jù）合成較（jiào）大的（de）團粒，並同時分解成碳渣
       二、紫外線輻照清洗
       利（lì）用紫外輻照來分解表（biǎo）麵上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表麵。如果把（bǎ）適當預清（qīng）洗的表麵放在一個產生臭氧的紫外線源中（zhōng）。要不了幾分鍾就可以形成清（qīng）潔表麵（工藝清潔）。這表明臭氧的存在（zài）增（zēng）加（jiā）了清潔（jié）速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，汙物分子受激並（bìng）離解，而臭氧的（de）生成（chéng）和存在產生高活性的原子態氧。受激的汙物分子和由汙（wū）物離解產生的自由基與（yǔ）原子態氧作（zuò）用。形成較簡單易揮發分子。如H203、CO2和（hé）N2。其反應速率隨溫度的增加而增加。
       三、放電清洗
       這種清洗方法在高真空，超高真空係統的清洗除氣中應用的非常廣泛。尤其是在真空（kōng）鍍膜機中用的多。利用熱絲或電極作為電子源。在其相對於待清洗的表麵加（jiā）負偏（piān）壓可以實現離子轟擊的氣體解吸及某些（xiē）碳氫化合物的去除。清洗效果（guǒ）取決於電極材料、幾何形狀及其與表麵的關係。即取決於單位表麵積上的離子（zǐ）數和離子能量。從而取決於有效（xiào）電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體（典型的如Ar氣）。可以利用兩個適當（dāng）的電（diàn）極間的（de）低壓下的（de）輝光放電產（chǎn）生（shēng）的離子轟擊來達到清洗（xǐ）的目的。該方法中。惰性氣體被離化並（bìng）轟擊真空（kōng）室（shì）內壁、真空室內（nèi）的其（qí）它結構件及被鍍基片，它可以使某些真空係統免除被（bèi）高溫烘（hōng）烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因（yīn）為氧氣可（kě）以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發性氣體而容（róng）易被真（zhēn）空係統排除。不鏽鋼（gāng）高真空和超高真空容器表麵（miàn）上雜質的主要成分是碳和碳氫（qīng）化合物。一（yī）般（bān）情況下，其中的碳（tàn）不能（néng）單獨揮發。經化學清（qīng）洗後，需要引入Ar或Ar+O2混（hún）合氣體（tǐ）進行輝光放電（diàn）清洗，使表麵上的雜（zá）質和由於化學作用被束（shù）縛在表麵（miàn）上的氣體得到清（qīng）除。在輝光放電清洗中。重要的參數是（shì）外加電壓的類型（交流或直流），放電電壓大小、電流密（mì）度、充入氣體種類和壓力。轟擊的持續時間。電（diàn）極的形狀以及待清洗的部件的材料和位置等（děng）。
       四、氣體（tǐ）衝洗
       1、氮氣衝洗
       氮氣在材料表麵吸附時，由於（yú）吸附能小，因而吸留表麵時間極短.即（jí）便吸附在器壁上，也很容易（yì）被抽走。利用氮氣的（de）這種性質衝洗真空（kōng）係統，可以大大縮短係統的抽氣時間。如真空鍍膜機在放（fàng）入大氣之前，先用幹燥氮氣充入真空室衝刷（shuā）一下再充（chōng）入大氣，則下一抽氣循環的抽氣時間可縮短近一半，其原因（yīn）為氮分予（yǔ）的吸附能遠比水氣分子小，在真空下（xià）充入氮氣後，氮（dàn）分子先被真空室壁吸附了。由於吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因（yīn）而使抽氣（qì）時間縮短了。如果係統被擴散泵油噴濺汙染了，還可以利用氮（dàn）氣衝洗法來清洗被汙染的係統.一般（bān）是一邊（biān）對係統進行烘烤加熱，一邊用氮氣衝洗係統，可（kě）將油汙（wū）染消除。
       2、反應氣體衝洗
       這種（zhǒng）方法特別適用於（yú）大型超高不鏽鋼真空鍍膜機的內部（bù）洗（去除碳氫化（huà）合物（wù）汙染）。通（tōng）常對於某些大型超高真空係統的（de）真（zhēn）空（kōng）室和真空元件，為了獲得原子態的清潔表麵，消除其表麵汙（wū）染的標準方法是化學（xué）清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真（zhēn）空係統等方法。以上的清洗和除氣方（fāng）法常用於真空係統安裝前及裝（zhuāng）配期間。在真空係統安裝後（或係統運行後），由於真空（kōng）係統內的（de）各種零部件已經被（bèi）固定，這時對（duì）它們進行除氣（qì）處理就（jiù）很困難，一旦係統受到（偶然）汙染（主（zhǔ）要是大原子數的（de）分（fèn）子如碳氫化合物（wù）的汙染），通常要拆卸後重新（xīn）處理再安裝。而用反應氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理。有效地除去不（bú）鏽鋼（gāng）真空室內的碳氫化合物的汙染.其清（qīng）洗（xǐ）機理：在係統中引述氧（yǎng）化性氣體（O2、N0 ）和還原性氣體（H2、N H3）對金屬表麵（miàn）進行化學反應清洗，消（xiāo）除（chú）汙染，以便獲得原子態的清潔金屬表麵。表麵氧化／還原的（de）速率取決於汙染的情況及金屬表麵的材質（zhì），表麵反應速率的大小通過調整反應氣體的壓力和溫度來控製。對於每（měi）一（yī）種基材而言，精確的參數要通過（guò）實驗來確定.對於不同的結晶取向（xiàng），這些參數是不同的（de）。