真（zhēn）空鍍膜（mó）設備的化（huà）學成分：
　　1、厚（hòu）度上的（de）均勻性，也可以理解為粗糙度，在（zài）光（guāng）學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單（dān）位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已（yǐ）經相當好，可以（yǐ）將粗糙度控製在可見光波長的1/10範（fàn）圍內，也就是說對於薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有什麽障礙，但是（shì）如果是指（zhǐ）原子層尺度上的均勻度，也（yě）就（jiù）是說要實現10A甚至1A的表麵平（píng）整，具體控製因素下麵會（huì）根據不同鍍膜給出詳細解釋。
　　2、化學組分上的均勻性（xìng）： 就是說在薄膜中（zhōng），化合物的原子組分會由於尺度過小（xiǎo）而（ér）很容易（yì）的產生不均勻特性（xìng），SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那麽實際表（biǎo）麵的組分並不是SiTiO3，而可能是其（qí）他的比例，鍍的（de）膜並非是想（xiǎng）要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技（jì）術含量所在，具體因素也在下麵給出。
　　3、晶格有序度的（de）均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶（jīng），是（shì）真空鍍膜技術中的熱點問題。