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真空鍍膜設備

科(kē)技創(chuàng)新為動力 專業服務為目標

多弧離子真空鍍膜機


  真空狀態是支(zhī)持真(zhēn)空鍍膜機運作的環境,需要高(gāo)真空度的設備,通常17.c-起草需要到高真空度,抽氣係統的作用是很重要的,但除了抽氣係統外,在真空鍍膜(mó)設備(bèi)運行的過程中,還有一點(diǎn)就是,工件的除氣。有些工件它本身(shēn)內部存在著,很多的氣體(tǐ)、水分等,這些物質會隨(suí)著設備加熱時,被排放到真空室中,降低了真空度,有些(xiē)氣體帶有毒性成(chéng)分(fèn),直接(jiē)損害到真空室(shì)內部機械結(jié)構,造成設備不能正常(cháng)運作。
  另外,正(zhèng)在鍍膜過程中,由於工件內氣體加熱膨脹,容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開,當然這個情況出現的機(jī)率視(shì)工(gōng)件本身物理性質有關,像塑料等容(róng)易膨脹的,機率就比較高,像金屬(shǔ)等硬質的,機率就比較低,但也不(bú)能忽視,因此工件的除(chú)氣是很(hěn)重要的。

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