所謂多（duō）弧離子（zǐ）鍍（dù）膜就（jiù）是置待鍍材（cái）料和被鍍基（jī）板於室內，真空鍍膜機多弧離子鍍（dù）膜采用一定方法加熱待（dài）鍍材料，使之蒸發或升華，並飛行濺射到被鍍基板表麵凝聚成膜的（de）工藝。
       多弧離子鍍膜的（de）方法，在條件下成膜有很多優點（diǎn），可減少蒸發材料的原子（zǐ）、分子在飛向基板過程中於分子的碰撞，減少氣體中的活性分（fèn）子和蒸發源（yuán）材料間的化學反應（如氧化等），以及減少成膜（mó）過程中氣體分子（zǐ）進入薄（báo）膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。
       真空鍍膜設備多（duō）弧離子鍍膜工（gōng）藝不（bú）僅避免了傳統表麵處理的（de）不足，且各項技術指（zhǐ）標（biāo）都優於傳（chuán）統（tǒng）工藝，在五金（jīn）、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣（guǎng）泛應用。催化液和傳統（tǒng）處理工藝相比，在技術上有哪些創新？
       1、多（duō）弧離子鍍膜不用電（diàn）、降低了（le）成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜（mó）機多弧離子鍍（dù）膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四分之一，可反複利用，大大降低了成本。
       2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一（yī）泡即成”，需要再加工時不經任何處理。